Il-Prinċipju Bażiku Ta 'Magnetron Sputtering

Il-prinċipju bażiku tal-magnetron sputtering

Magnetron sputtering huwa l-użu ta 'kamp manjetiku biex jorbot il-moviment ta' l-elettroni, ittejjeb ir-rata ta 'jonizzazzjoni ta' elettroni. Meta mqabbel mal-sputtering tradizzjonali, għandu żewġ karatteristiċi ewlenin: "temperatura baxxa (iżżid in-numru ta 'ħabtiet, l-enerġija tal-elettroni tonqos gradwalment, u taqa' biss fuq l-anodu wara li l-enerġija titnaqqas)" u "veloċità għolja (iżżid il-mogħdija) tal-moviment tal-elettroni, ittejjeb ir-rata ta 'jonizzazzjoni, jonizza aktar joni li jibbumbardjaw il-mira)".
Il-prinċipju bażiku li tiżdied ir-rata ta 'sputtering permezz ta' kampi manjetiċi kien ivvintat minn Penning aktar minn 60 sena ilu u aktar tard żviluppat minn Kay u oħrajn, li wassal għall-iżvilupp ta 'pistoli sputtering u sorsi ta' kamp manjetiku ċilindriku. Strutturi manjeto planari ġew introdotti f'Chapin fl-1979.

Kumpanija IKS PVD, magna tal-kisi dekorattiv, magna tal-kisi tal-għodod, magna tal-kisi DLC, magna tal-kisi ottiku, linja tal-kisi tal-vakwu PVD, il-proġett turn-key huwa disponibbli. Ikkuntattjana issa, E-mail: iks.pvd@foxmail.com