Karatteristiċi ewlenin u Vantaġġi tat-Teknoloġija tal-Kisi PVD (ion Coating)

Karatteristiċi u vantaġġi ewlenin tat-teknoloġija tal-kisi PVD (ion ion) - meta mqabbla ma 'kisi ta' evaporazzjoni bil-vakwu u kisi ta 'sputtering bil-vakwu, il-kisi tal-joni PVD għandu l-vantaġġi li ġejjin:
A. L-adeżjoni bejn is-saff tal-film u l-wiċċ tal-biċċa tax-xogħol hija b'saħħitha, u tagħmilha iktar durabbli u reżistenti għall-ilbies
B. Il-prestazzjoni tad-diffrazzjoni ta 'joni hija tajba, u l-biċċa tax-xogħol b'forma kumplessa tista' tkun indurata
C. Ir-rata ta 'depożitu tal-films hija mgħaġġla u l-effiċjenza tal-produzzjoni hija għolja
D. Varjetà wiesgħa ta 'tipi ta' kisi
E. Prestazzjoni stabbli u sigurtà għolja tal-membrana (approvata mill-FDA u impjantabbli).

Ixtri magna tal-kisi PVD ， ikkuntattja IKS PVD ， aħna manifattur tal-magna tal-kisi bil-vakwu PVD miċ-Ċina.

E-mail ： iks.pvd@foxmail.com