Karatteristiċi ta 'Nanocoatings PVD
May 22, 2019| Karatteristiċi tan-nanokoperturi tal-PVD
Hemm tliet metodi bażiċi għad-depożizzjoni fiżika tal-fwar tan-nano-kisi: l-evaporazzjoni tal-vakwu, it-tifrix u d-depożizzjoni tal-joni. L-evaporazzjoni tal-vakwu hija li l-materjal mis-sors jiġi vaporizzat f'partiċelli (atomi jew joni) permezz ta 'tisħin b'raġġ ta' elettroni, tisħin bil-lejżer, eċċ., u mbagħad iddepożitahom fuq il-wiċċ tal-biċċa tax-xogħol biex jiffurmaw kisja. Il-kisi għandu relattivament aktar pori, li għandu adeżjoni ġenerali mas-sottostrat. Kisi tat-tifrix jieħu l-biċċa xogħol bħala l-anodu u l-mira bħala l-katodu. L-jon argon iġġenerat mill-jonizzazzjoni ta 'l-argon huwa utilizzat biex ineħħi l-atomi tal-mira u jiddepożitahom fuq il-wiċċ tal-biċċa tax-xogħol. Il-kisja għandha inqas pori u hija kkombinata sew mas-sottostrat. Kisi joniku għandu jagħmel il-materjal f'atomi permezz ta 'evaporazzjoni, sputtering jew metodi kimiċi u jkun jonizzat mill-plażma madwar is-sottostrat. Taħt l-azzjoni tal-kamp elettriku, il-kisi huwa ffurmat billi jtajjar lejn is-sottostrat b'enerġija kinetika akbar. Il-kisi huwa uniformi u dens, bażikament bl-ebda pori, u kkombinat sew mas-sottostrat.
In-nanofilms ta ’l-ossidu tat-titanju tħejjew b’mc magnetron sputtering. Il-pressjoni tal-kompartiment tat-tifrix kienet ippumpjata għal 1.3 10-4pa, u mbagħad mimlija b'Ar, O2 u CF4, il-pressjoni totali kienet 1.3pa (l-ammont ta 'injezzjoni ġie kkontrollat waqt it-tifrix). Il-ħxuna tal-film hija għaddejja taħt vultaġġ kostanti tat-tifrix (700 v) biex tbiddel il-kundizzjonijiet tal-kontroll tat-tifrix tagħha, tikkontrolla t-temperatura tal-pjanċa bażi tal-ħin tat-tifrix f'100 ~ 400 ℃ . Karatteristiċi elettrokromiċi nstabu f'LiC1O4 u propylene carbonate. Madankollu, is-superfiċje tal-film hija affettwata minn gass u partiċelli ċċarġjati, u l-prestazzjoni tal-film hija affettwata ħafna mill-istat tal-plażma, u l-kundizzjoni tat-tifrix mhijiex faċli li tiġi kkontrollata b'mod strett, li hija wkoll l-akbar żvantaġġ tagħha.
Sabiex tittejjeb aktar il-kwalità tal-kisi nano, ġew żviluppati u derivati diversi teknoloġiji avvanzati tal-PVD permezz tal-kombinazzjoni ta 'teknoloġiji varji. Ġew żviluppati tekniki varji ta 'manjetron tat-tifrix bl-introduzzjoni tal-kamp manjetiku fit-teknika tat-tifrix li hija ddominata mill-kamp elettriku. Sabiex jissaħħaħ il-proċess kimiku tal-formazzjoni ta 'film, ġie introdott gass reattiv fil-proċess ta' evaporazzjoni, sputtering u kisi tal-joni, u b'hekk ħarġu teknoloġija ta 'evaporazzjoni reattiva, teknoloġija ta' sputtering reattiva u teknoloġija ta 'kisi ta' joni reattiva. Barra minn hekk, hemm depożizzjoni bil-lejżer bil-polz (PLD), manjetron sputtering (MSPLD), ionizedmagnetron sputtering (ionizedmagnetron sputtering), molekulari beam epitaxy (MBE), tkabbir tal-migrazzjoni u teknoloġija ġdida tal-membrana.
Jidher li bl-iżvilupp tax-xjenza u t-teknoloġija, il-konfini bejn is-CVD u l-PVD mhumiex ċari, u t-tnejn jidħlu lil xulxin, u b'hekk jagħmlu ż-żewġ teknoloġiji tal-preparazzjoni tal-kisi aktar perfetti.
IKS PVD machine magna tal-kisi dekorattiva ， għodda tal-magna tal-kisi ， kuntatt ： iks.pvd@foxmail.com
