Introduzzjoni qasira tat-teknoloġija HIPIMS

Magnetron sputtering tat-teknoloġija tintuża ħafna fil-qasam tal-qasam tal-kisi. Hu komunement użati kemm għall-applikazzjonijiet ta ' kisi dekorattiv u applikazzjonijiet ta ' kisi ta ' l-għodda. Iżda għad hemm ħafna il-limitazzjonijiet tat-teknoloġija sputtering magnetron. Per eżempju, id-densità ta ' enerġija ta ' magnetron sputtering miri huwa affettwat bit-tagħbija termali fil-mira. Taħt sputtering kbar joni posittivi kurrenti, eċċessiv bombard-fil-mira, li jistgħu jikkawżaw il-mira sputtering li overheat u tirrekordja, oltre, l-enerġija ta ' l-sputtering huwa limitat, u r-rata ta ' jonizzazzjoni tal-metall mhux għoli.

Fis-snin riċenti, a magnetron high-power implusiva sputtering tat-teknoloġija (HiPIMS) ġie żviluppat fid-dar u barra minn Malta, li weakens bil-kbir dawn il-limitazzjoni. Il-qawwa tal-quċċata tal-HiPIMS huwa madwar 100 darba dak tal-sputtering ta ' magnetron ordinarju, u l-materjal sputtering tkun ir-rata għolja ħafna tal-jonizzazzjoni tal, ukoll, dan ir-raġġ ħafna ionized ma fihx partiċelli kbar, li hija r-raġuni għaliex HiPIMS jistgħu jiġu faċilment jiksbu kwalità għolja film is-saff.

Peress li l-ħin ta ' l-azzjoni tal-polz huwa fi ħdan mikrosekondi ftit mijiet, il-medja tal-qawwa ta ' l-HiPIMS huwa ekwivalenti għal dak ta ' l-ordinarju tal-magnetron sputtering, hekk li l-ħtieġa għat-tkessiħ tal-mira tal-magnetron ma tkunx miżjuda. Għalkemm il-qawwa instantanja ta magnetron implusiva high-power sputtering huwa għoli ħafna, l-qawwa medja tagħha ma tkunx għolja wisq, hekk li jistgħu jiġu promossi b'mod wiesa.