Applikazzjoni ta ' l-evaporazzjoni tar-ra ġġ ta ' elettroni

Applikazzjoni ta ' evaporazzjoni tar-ra ġġ ta ' elettroni--preparazzjoni ta ' film ta ' TiO2 permezz ta ' evaporazzjoni ta ' raġġ ta ' elettroni

Prinċipju tal-kisi evaporazzjoni ta ' raġġ ta ' elettroni biex jipprepara film TiO2, bl-u żu tal-integrità-39 sistema awtomatika ta ' kisi ottiku bl-evaporazzjoni ta ' raġġ ta ' elettroni assistit b ' raġġ ta ' jone kif muri fil-figura ta ' hawn taħt.

1. bokka tal-ilma tat-tkessi ħ; 2. l-i żbokk tal-ilma tat-tkessi ħ; 3. griġjol; 4. kojl tar-ra ġġ; 5. trasmettitur tar-ra ġġ tal-elettroni; 6. lampa tat-tis ħin; 7. qafas ta ' substrat; 8. il-mutur; 9. film ta ' monitoraġġ; 10. il-vulta ġġ ta ' ħidma tal-gun tal-elettroni tal-kampjun imħejji mill-kisi tas-sors tal-jonji huwa 10 kV, il-kurrent huwa 200 A, u t-temperatura tad-deposizzjoni tal-kamra tal-vakwu hija 145 ~ 155 ° c. Ti2O3 ta ' granulari iswed b ' purità ta ' 99.99% kienet magħżula għall-materjal tal-membrana. CC-105 travu tal-jone tal-katodu kiesaħ intuża għal depożizzjoni awżiljarja. Waqt id-depo żitu, il-kamra tal-vakwu kienet mimlija b ' O2 b ' purità ta ' 99.99% bħala l-gass ta ' reazzjoni. Qabel il-kisi, is-sottostrat jitnaddaf b ' soluzzjoni tal-ħġieġ, imlaħlaħ b ' taħlita bil-kostitwenti joniċi mneħħijailma, u mnixxef bl-Infi ħ bin-nitro ġenu. Imbagħad, is-sottostrat jitnaddaf b ' 99.9% aċetun u l-a mewġ ultrasoniku tal-etanol għal 15-il minuta kull wieħed. Wara t-tnixxif bil-karta Imsaħ speċjali, jiġi mgħobbi fil-kamra tal-vakwu. Meta l-vakwu jiġi ppumpjat għal 6.5 × 10-4pa permezz ta ' pompa mekkanika u pompa tad-diffu żjoni, il-pro Ċess awtomatiku tal-kisi huwa ssettjat. Meta s-sottostrat jissaħħan għat-temperatura ta ' depożizzjoni ta ' 150 ° c, is-sors tal-jone jibda jinbbata s-sottostrat, u l-ener ġija hija kkontrollata f ' 60 ~ 90 eV għal 10 min.

imbagħad, il-gun ta ' l-elettron huwa awtomatikament mibdi biex isaħħan u jevapora l-materjal tal-film, u r-rata ta ' depożizzjoni hija 0.38 ~ 0.42 NM/s. Meta l-film huwa ddepożitat għall-ħxuna tad-disinn ta ' 440 NM, il-programm awtomatikament jagħlaq il-Pistola elettron, u l-plating huwa kkompletat. Wara l-kisja, il-kamra tal-vakwu ġiet imkessħa b ' mod naturali għat-temperatura tal-kamra u l-kampjun ittieħed. It-test spettrali tal-kampjun TiO2 sar b ' Lambda900 (firxa tat-test 175 ~ 3 300 NM) Spettrofotometru. Il-ħxuna attwali, il-koeffi ċjent ta ' estinzjoni u l-Indi ċi refrattiv ta ' film TiO2 kienu kkalkulati mill-metodu tal-envelop tas-softwer Macleod. L-effetti ta ' gradi differenti ta ' vakwu fuq il-film li jiffurmaw quality, indiċi refrattiv u koeffiċjent ta ' assorbiment ta ' TiO2 ġew studjati ma ' flussi differenti ta ' ossiġnu ta ' purità għolja fil-kamra tal-vakwu. Meta l-film irqiq TiO2 jiġi ddepożitat bl-evaporazzjoni assistita mis-sors tal-jone f ' livell ta ' vakwu għoli, il-bidla fil-grad tal-vakwu bil-passa ġġ tal-ossi ġnu hija elenkata fit-tabella li ġejja. Peress li l-molekuli ta ' l-ossi ġnu fil-kamra tal-vakwu huma jonizzat f ' jonji ta ' l-ossi ġnu u jirreaġixxu ma ' molekuli Ti2O3 fwar, l-ossi ġnu mitluf fid-dekompo żizzjoni ta ' Ti2O3 jerġa ' jimtela, u l-TiO2 riżultanti fil-film huwa relattivament pur. Madankollu, jekk il-provvista ta ' l-ossi ġnu ma tkunx biżżejjed jew ir-reazzjoni bejn il-Ti2O3 u l-O2 ma tkunx biżżejjed, il-film ta ' l-ossidu tat-titanju b ' assorbiment għoli tino2n-1 (n = 1, 2,..., 10). Biż-żieda tal-fluss tal-ossi ġnu, il-probabbiltà tal-kolli żjoni bejn molekuli TiO2 fwar u molekuli tal-ossi ġnu fil-pro Ċess ta ' żieda fl-evaporazzjoni tiżdied u l-ener ġija tintilef, li tnaqqas l-ener ġija kinetika ta ' TiO2 depożitata fuq il-wi ċċ tas-sottostrat u taffettwa l-ade żjoni u d-densifikazzjoni Għal films irqaq ottiċi, is-sors tal-jone jassisti jista ' jżid l-ener ġija kinetika tal-molekuli fuq is-superfi ċje tas-sottostrat, mhux biss ikollu impatt sinifikanti fuq l-Indi ċi refrattiv tal-film, iżda jista ' wkoll itejjeb id-densità tal-films u r-re żistenza tal

IKS-OPT2700 ottiku magna kisi vakwu, aktar dettalji, kuntatt: iks.pvd@foxmail.com