X'inhi d-deposizzjoni ta ' fwar fiżiku?

Deposizzjoni ta ' fwar fiżiku (PVD) tiddeskrivi l-varjetà ta ' metodi ta ' depożizzjoni bil-vakwu li jistgħu jintużaw biex jipproduċi film irqiq u kisjiet. PVD hija karatterizzata bi proċess li fih il-materjal imur mill-fażi IKKONDENSAT għall-fażi ta ' fwar ta u mbagħad lura għal fażi IKKONDENSAT film irqiq. Il-proċessi PVD aktar komuni huma sputtering u l-evaporazzjoni. PVD huwa użat fil-manifattura ta ' oġġetti li jeħtieġu films irqiq għal funzjonijiet mekkaniċi, ottiċi, kemikali jew elettroniċi. Eżempji jinkludu mezzi semikondutturi bħall-pannelli solari saff irqieq, aluminized tal-film tal-PET għall-ippakkjar ta ' ikel u blalen, u għodod tal-qtugħ għal xogħol tal-ħadid miksija. Minbarra PVD għodda għall-fabbrikazzjoni, ġew żviluppati għodod speċjali iżgħar (prinċipalment għal għanijiet xjentifiċi).

Kisi industrijali komuni applikati mill-PVD huma titanju tantalu, tantalu taż-żirkonju, kromju tantalu, titanju aluminju tantalu.

Il-materjal ta ' sors huwa ma hux wkoll depożitati fuq ħafna oħrajn uċuħ l-intern għall-kamra tal-vakum, inklużi l-fixturing użati biex iżommu l-Partijiet.

Eżempji

● Deposizzjoni ta ' ark katodiku jagħmel użu: Fl fl-blasts materjali mira (għajn) bogħod li skarikati a b'ark elettriku high-power xi ftit fis-ħafna jonizzati fwar jintefgħu għal fuq il-biċċa xogħol.

● Deposizzjoni ta ' fwar fiżiku raġġ elettron: li l-materjal jiġi depożitat jissaħħan għal pressjoni ta ' fwar għolja bl-elettron bumbardament fil-vakum "għolja" u huwa trasportat b ' diffużjoni jintefgħu mill-kondensazzjoni fuq il-biċċa xogħol (cooler).

● Deposizzjoni evaporattivi: fl-li l-materjal jiġi depożitat jissaħħan għal pressjoni għolja ta ' fwar ta ' l minn reżistenza elettrika tas-sħana fil-vakwu "għolja".

● Implusiva deposizzjoni tal-laser: li a high-power laser ablates materjal mill-mira fil-fwar.

●Deposizzjoni tat-tbeżżiq: F ' li jiskarikaw plażma glow (is-soltu lokalizzati madwar il "fil-mira"bil-kalamita) bombards l-materjal sputtering ftit bogħod bħala a fwar għad-depożizzjoni sussegwenti.

● Implusiva elettron deposizzjoni: fl-li energetic ħafna implusiva elettronu ablates materjal mill-mira li jiġġenera taħt kondizzjonijiet nonequilibrium nixxija tal-plasma.

● S-sublimazzjoni sandwich metodu: użati għall-ħolqien ta ' kristalli magħmulin mill-bniedem.

Diversi tekniki ta ' karatterizzazzjoni film irqiq jista ' jintuża biex ikejjel il-propjetajiet fiżiċi tal-kisjiet PVD, bħal ma huma:

● Calo apparat li jittestja: test ta ' ħxuna tal-kisi

● Nanoindentation: ebusija tat-test għall-kisi tal-film irqiq

● Waħħal fuq diska Instron: test koeffiċjent xedd u l-frizzjoni

● Apparat li jittestja scratch: test ta ' l-adeżjoni kisi

● Ray mikro-analizzatur: investigazzjoni tal-karatteristiċi strutturali u l-eteroġeneità tal-kompożizzjoni elementali għall-uċuħ tat-tkabbir

Paragun għall-oħra tekniki ta ' deposizzjoni

Il-vantaġġi

● PVD kisjiet huma xi kultant aktar u aktar reżistenti għal korrosjoni minn kisjiet applikati mill-proċess ta ' l-electroplating ikunu. Kisjiet ħafna jkollhom temperatura għolja u s-saħħa ta ' l-impatt tajba, reżistenza għall-brix eċċellenti u huma hekk durabbli li passati protettivi kważi qatt ma huma meħtieġa.

● L-abbiltà li tutilizza kważi kull tip ta ' materjali inorganiċi u organiċi xi kisja fuq xi grupp ugwalment diversa ta ' substrati u uċuħ bl-użu ta ' varjetà wiesgħa ta ' finituri.

● Aktar favur l-ambjent minn proċessi ta ' kisi tradizzjonali bħal kisi bil-fidda u pittura. [titolu fil-qosor meħtieġa]

● Teknika ta ' aktar minn wieħed jistgħu jintużaw biex jiddepożita Rita partikolari.

L-iżvantaġġi

● Teknoloġiji speċifiċi jistgħu jimponu kostrizzjonijiet; per eżempju, linja tal-vista trasferiment huwa tipiku ta ' tekniki biċċa l-kbira ta ' kisi PVD, madankollu hemm metodi li jippermettu kopertura sħiħa tal-kumpless geometries.

● Xi teknoloġiji PVD tipikament joperaw f'temperaturi għoljin ħafna u jomla-vojt, li jeħtieġu attenzjoni speċjali mill-personal jopera.

● Jeħtieġ sistema ilma li jkessaħ li jinxterdu tagħbijiet kbar tas-sħana.