Teknoloġija PVD f'erba 'passi ta' proċess
Apr 06, 2020| Teknoloġija PVD f'erba 'passi ta' proċess (1) tindif tal-biċċa tax-xogħol: imqiegħed fuq il-provvista ta 'enerġija DC, argon li jarmu l-jone tal-argon, bombi tal-joni argon tal-wiċċ tal-biċċa xogħol, partiċelli tal-wiċċ u partijiet maħmuġin tal-biċċa tax-xogħol ġew mitfugħa; (2) il-gassifikazzjoni tal-materjal tal-plating: jiġifieri, wara l-introduzzjoni tal-kurrent alternanti, il-vaporizzazzjoni tal-materjal tal-plating. (3) migrazzjoni ta 'joni tal-materjal tal-plating: wara l-ħabta u l-kamp elettriku ta' vultaġġ għoli, l-atomi, molekuli jew joni mis-sors tal-gassifikazzjoni ġrew lejn il-biċċa tax-xogħol b'veloċità għolja; (4) Atomi, molekuli jew joni tal-kisi huma depożitati fuq is-sottostrat: meta l-jonji tal-materjal ta 'evaporazzjoni fuq il-wiċċ tal-biċċa tax-xogħol jaqbżu n-numru ta' joni ta 'tixrid, dawn jakkumulaw gradwalment biex jiffurmaw saff ta' kisi li jkun imwaħħal sew mal-wiċċ tal- biċċa tax-xogħol Wara jonizzazzjoni tal-partiċelli tal-kisi tal-joni, il-materjal ta 'evaporazzjoni għandu tlett elef għall-enerġija kinetika ta' ħamest elef volt, artifatti tal-bombardament b'veloċità għolja, mhux biss il-veloċità tad-depożitu hija mgħaġġla, u kapaċi tippenetra l-wiċċ, li tifforma fond fil-fond tas-saff ta 'diffużjoni tal-matriċi , il-fond ta 'diffużjoni tal-interface tal-plating tal-joni jkun ta' erba 'sa ħames mikroni, jiġifieri, minn fond tal-fond tal-kisi bil-vakwu ordinarju fil-fond ta' għexieren ta 'drabi, anke mitt darba, u mwaħħal ma' xulxin daqshekk malajr.
IKS PVD Technology (Shenyang) Co., Ltd , PVD vakwu kisi tal-manifattur tal-magna miċ-Ċina, il-prodott ewlieni tagħna: kisi dekorattiv tal-mahcine, għodda tal-kisi tal-magna, magna tal-kisi ottiku, kisi PVD line.More dettalji, ikkuntattja: iks.pvd@foxmail. com



