Depożizzjoni sputtering Ion

Dec 05, 2019|

Depożizzjoni sputtering Ion

Il-joni tal-argon b'enerġija ta '0.1 ~ 5keV jintużaw biex ibbumbardjaw materjal magħmul minn ċertu materjal, iħabbtu l-atomi fil-mira u jiddepożitawhom fuq il-wiċċ tal-biċċa tax-xogħol biex jiffurmaw film irqiq. Fil-fatt, dan il-metodu huwa proċess ta 'kisi.

NeoImage_副本

IKS PVD Elettroniku raġġ tal-magna tal-kisi ottiku ， IKS-OPT2700, Aktar dettalji, merħba tikkuntattja iks.pvd@foxmail.com

← Par ta ' l-: Esperiment Torricelli u Torricelli

Li jmiss: X'inhu n-normalizzazzjoni tal-azzar X'inhu l-iskop X'inhuma l-applikazzjonijiet →

Ibgħat l-inkjesta